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                    手機真空鍍膜機|離子鍍膜的工作原理

                    2018-12-17  來自: 東莞市興族(納米科技)實業有限公司 瀏覽次數:309

                      手機真空鍍膜機|離子鍍膜的工作原理,離子鍍膜機主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜,具體包括很多種類,包括真空蒸發鍍膜機、真空多弧離子鍍膜機、真空中頻磁控濺射鍍膜機、多功能中頻磁控濺射多弧復合離子鍍膜機

                      離子濺射鍍膜,多半是在反應氣體存在下進行的,化合物沉積膜的穩定性和光學常數,依賴于氣體的類型和陰極材料。常用的反應氣體為氧氣,常用的陰極材料有鐵、鎳、銅鉛等,有時電剛金、鉑、鈀、銦和其他金屬。反應濺射形成的氧化物是屬于有吸收而折射率不是很高的鍍膜材料。

                      濺射鍍膜的操作與濺射鍍膜設備是密切相關的。目前商業上已有很精制的設備安裝在顯微鏡下的載物臺的位置上。濺射鍍膜時,將拋光的試樣安放在式樣頭具上,傾轉到面對電子槍(陰極)的位置,調節濺射室中的氣壓,輝光放電,陰極濺射,反應濺射沉積。中斷濺射,把濺射沉積的試樣表面,轉回到面對物鏡的位置,觀察試樣表面的顏色,來評定沉積膜的厚度,當要求的顏色得到時,鍍膜操作停止。

                    關鍵詞: 手機真空鍍膜機           

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